MBE生产需要一个液氮储罐(1)，其容量应根据MBE系统的液氮消耗量和液氮输送频率来确定。通常，小型研究MBE系统消耗50-250L/天，而大型MBE系统可能需要4000L/天。强烈建议使用配备真空隔热抽出阀(2)的低压(2至3巴)散装储罐。对于管道工程(3)，好使用半柔性或刚性真空夹套管，以尽量减少液氮的热损失，这大大增加了MBE生产的运营成本。管道系统可以是静态真空或动态真空，需要一个小型专用真空泵来保持真空完整性。为确保向MBE低温板输送纯液氮，建议配备相分离器(4)和Triax软管(5)。液氮系统可以显著节省成本。
液氮闭环循环系统工作
该系统适用于世界上许多MBE系统，如Riber、DCA和Veeco。它已被许多客户广泛用于化合物半导体器件开发，如红外、光通信等。我们的系统有静态真空或动态真空隔热两种。一个完整的闭环系统由带多个出口的相分离器、三通软管、模块化配件和用于液氮流量控制的真空夹套阀组成隔离。
MBE的闭环液氮循环系统始终保持在大气压下。控制器允许相分离器以闭环方式自调节MBE的液氮供应流量，使低温板在不同操作条件下保持充满液氮。
闭环液氮系统具有以下优点：
•液氮节省高达30%
•高效低温板冷却至-196°C
•易于液氮操作-根据MBE系统运行各个阶段的热负荷自动调节液氮流量
什么是MBE？
分子束外延(MBE)是一种基于超高真空(UHV)的技术，用于生产具有单层控制的高质量外延结构。
自20世纪70年代作为生长高纯度半导体薄膜的工具引入以来，MBE已经发展成为生产金属、绝缘体和超导体外延层广泛使用的技术之一。如今，MBE是化合物半导体行业不可或缺的工具，无论是在研究还是生产层面。
III-V族半导体的典型MBE生长速率约为1um/小时，这是在~10e-6torr的III族分压下获得的。晶体中的原子密度约为10e22.cm-3，这意味着要将杂质浓度降低到10e15.cm-3以下，杂质分压必须降低到~10e-12Torr以下。
液氮是分子束外延成功运行的重要组成部分。MBE系统依赖于液态N2低温板，其内部围绕主室壁和源法兰构建。由于分子束外延是一种冷壁技术，因此使用低温板来防止分子从热渗出细胞以外的部位再次蒸发。
此外，它们还提供了不同电池之间的热隔离，以及剩余气体的额外泵送。在晶片生长过程中，低温板内的低蒸气压液氮供应对于确保杂质分压始终保持在10e12托以下至关重要。
